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ZrNiSn半Heusler熱電材料中本征無序相關合金散射

2020.11.23

【引言】

熱電材料提供了將廢熱直接轉化為可用電能的可能性,可能是解決當今能源危機的一個重要組成部分。對典型TE材料中電子和聲子輸運的深入理解導致了基于優(yōu)化可調(diào)輸運參數(shù)的富有成效的策略。



【成果介紹】

本征結構無序會顯著影響半導體的熱輸運和電子輸運。盡管通常認為是有序化合物,但半Heusler-ZrNiSn表現(xiàn)出無序合金的許多輸運特性。與(Zr,Hf)NiSn基固溶體類似,未被取代的ZrNiSn化合物也表現(xiàn)出以合金散射為主的電荷輸運。這種意外的電荷輸運,即使在通常被認為是完全有序的ZrNiSn中,也可以用半Heusler系統(tǒng)中Ni部分填充間隙位來解釋。通過改變Sb摻雜量,定量分析了載流子濃度nH5.0×10192.3×1021cm-3ZrNiSn1-xSbx中晶體結構的無序和缺陷對電子輸運過程的影響。采用LinseisLSR-3系統(tǒng)測量了Seebeck系數(shù)。優(yōu)化的載流子濃度nH<3-4×1020cm-2導致在875K處ZT<0.8。這項工作表明,MNiSn(M=Hf,Zr,Ti)和其他大部分半Heusler熱電材料應被認為是高度無序的,尤其是在試圖理解電子和聲子結構和輸運特性時。

【圖文導讀】

01


圖1:a)載流子濃度nH,(b)霍爾遷移率μH(插圖顯示低溫霍爾遷移率)和(c)ZrNiSn1xSbxx=0–0.1)樣品的電導率與溫度的關系。(d)與其它TE材料相比,ZrNiSn0.99Sb0.01的歸一化電導率。(插圖顯示了電導率與溫度的關系。)

02


圖2:a)Heusler-ZrNi2Sn體系和(b)半Heusler-ZrNiSn的晶體結構系統(tǒng)Zr-Sn形成的八面體中心在半Heusler體系中占一半。
03


圖3:室溫霍爾載流子密度與銻含量的關系。實驗載流子密度略高于計算值,假設每個Sb原子為ZrNiSn1-xSbx系統(tǒng)提供一個電子(虛線)。

04


圖4:a) 對于ZrNiSn1-xSbxx=0–0.1),霍爾遷移率作為300 K下霍爾載流子密度的函數(shù)。(b)在300K、600K和800K下,ZrNiSn1-xSbxx=0–0.1)的霍爾遷移率與霍爾載流子密度的函數(shù)關系。計算了考慮極性、合金和聲子散射的固體曲線。虛線表示個別散射機制的計算貢獻。

05

圖5:a) 作為ZrNiSn1-xSbxx=0–0.1)溫度函數(shù)的塞貝克系數(shù)樣品。實曲線采用SKB模型,虛線曲線采用SPB模型計算。(b) 塞貝克系數(shù)作為霍爾載流子密度的函數(shù)。計算了考慮極性散射、合金散射和聲子散射的固體曲線。補充資料中給出了基于每種機理的Pisarenko曲線。


06


圖6:a)研究了ZrNiSn1-xSbxx=0-0.1)樣品的熱導率和(b)晶格熱導率的溫度依賴關系。


07


圖7:a)對于摻銻的ZrNiSn1-xSbxx=0-0.1),ZT是溫度的函數(shù),(b)ZT是霍爾載流子濃度的函數(shù)。





【結論】

與重取代(Zr,Hf)NiSn基固溶體合金相似,未取代ZrNiSn化合物也表現(xiàn)出合金散射主導的電荷輸運,μH~T-0.5依賴性表明。這種意外的輸運現(xiàn)象可以用Ni部分填充間隙位來解釋。分析表明,即使ZrNiSn-half-Heusler合金中存在少量的原子無序,也足以導致合金散射主導的電子輸運,這意味著本征點缺陷無序對TE材料中電荷輸運的影響具有重要意義。實驗和理論計算表明,優(yōu)化的ZT值接近nH≈3-4×1020cm-3。在875K時,ZrNiSn0.99Sb0.01ZT<0.8最高。這項工作表明,MNiSn和其他大多數(shù)半費斯勒熱電材料在試圖理解電子和聲子結構時,應被認為是無序的。




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