【引言】
【成果介紹】
本征結構無序會顯著影響半導體的熱輸運和電子輸運。盡管通常認為是有序化合物,但半Heusler-ZrNiSn表現(xiàn)出無序合金的許多輸運特性。與(Zr,Hf)NiSn基固溶體類似,未被取代的ZrNiSn化合物也表現(xiàn)出以合金散射為主的電荷輸運。這種意外的電荷輸運,即使在通常被認為是完全有序的ZrNiSn中,也可以用半Heusler系統(tǒng)中Ni部分填充間隙位來解釋。通過改變Sb摻雜量,定量分析了載流子濃度nH為5.0×1019~2.3×1021cm-3的ZrNiSn1-xSbx中晶體結構的無序和缺陷對電子輸運過程的影響。采用LinseisLSR-3系統(tǒng)測量了其Seebeck系數(shù)。優(yōu)化的載流子濃度nH<3-4×1020cm-2導致在875K處ZT<0.8。這項工作表明,MNiSn(M=Hf,Zr,Ti)和其他大部分半Heusler熱電材料應被認為是高度無序的,尤其是在試圖理解電子和聲子結構和輸運特性時。
【圖文導讀】
01
02
04
06
07
【結論】
與重取代(Zr,Hf)NiSn基固溶體合金相似,未取代ZrNiSn化合物也表現(xiàn)出合金散射主導的電荷輸運,μH~T-0.5依賴性表明。這種意外的輸運現(xiàn)象可以用Ni部分填充間隙位來解釋。分析表明,即使ZrNiSn-half-Heusler合金中存在少量的原子無序,也足以導致合金散射主導的電子輸運,這意味著本征點缺陷無序對TE材料中電荷輸運的影響具有重要意義。實驗和理論計算表明,優(yōu)化的ZT值接近nH≈3-4×1020cm-3。在875K時,ZrNiSn0.99Sb0.01的ZT<0.8最高。這項工作表明,MNiSn和其他大多數(shù)半費斯勒熱電材料在試圖理解電子和聲子結構時,應被認為是無序的。